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机译:纳米光致抗蚀剂:配体交换作为一种新的敏感的EUV图案形成机制
Kryask, Marie; Trikeriotis, Markos; Ouyang, Christine; Chakrabarty, Sovik; Giannelis, Emmanuel P.; Ober, Christopher K.;
机译:纳米光致抗蚀剂:配体交换作为一种新的和敏感的EUV图案化机制。
机译:纳米光致抗蚀剂:配体交换作为一种新的敏感的EUV构图机制
机译:氧化物纳米粒子EUV(一种)光致抗蚀剂:目前对不寻常的图案形成机理的理解
机译:自由基敏感的锌基纳米粒子EUV光刻胶
机译:EUV光致抗蚀剂暴露的二次电子相互作用
机译:通过非化学放大光刻胶的EUV定向极性切换对复杂纳米特征的高度有序阵列进行构图
机译:EUV光刻系统和在EUV掩模上构图光刻胶层的方法
机译:适于作为酸产生剂的盐,适用于ARF准分子激光光刻,KRF准分子激光光刻,EUV,乳化光刻和电子束光刻的光致抗蚀剂组合物,以及光致抗蚀剂的制造方法
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